10.3、处理设备10、3 1、要采用碳化钨进行喷嘴硬化处理等措施是防止喷嘴堵塞。为确保废气以尽可能高的温度进入除尘器,蒸发冷却塔需保温。10。3 2.袋式除尘器的气布比与废气的性质有关系 在纯氧燃烧的熔炉系统中.要以1 8m,min为正常设计值，10 3、3。本条是关于选择性非催化还原法处理设备的要求、采用选择性非催化还原Selective。Non.Catalytic Reduction 以下简写为SNCR技术.不使用催化剂.在850.1000。的温度范围内,将含氨基的还原剂，如氨水。尿素溶液等，喷入炉内.将烟气中的氮氧化物还原脱除.生成氮气和水。在合适的温度区域、且氨水和尿素作为还原剂时.其反应方程式为 1,NH3为还原剂 4NH3.4NO.O2，4N2.6H2O、NO2具有氧化性。和NH3反应生成H2O和N26NO2,8NH3,7N2,12H2O.2 尿素为还原剂.2NO 2CO。NH2,2,O2、3N2 2CO2。2H2O10,3.4 本条是关于高效选择性非催化还原法处理设备的要求,1、高效选择性非催化还原法、HESNCR,为SNCR的改进型，第二代的SNCR系统,有比SNCR更高的脱硝处理效果.HESNCR工艺通过氨气增温增压混合器。首先常温预先雾化氨水溶液 然后高温气化并增压,气态氨喷入待处理烟气的脱硝反应区内、使氨与烟气充分混合并接触反应，在炉膛800。1100.这一狭窄的温度范围内。在无催化剂作用下。氨基还原剂选择性地还原烟气中的氮氧化物,基本上不与烟气中的氧反应，主要反应与SNCR相同，NH3.NOx,N2，H2O，HESNCR工艺的氮氧化物脱除效率主要取决于适当的反应温度.氨和氮氧化物的化学计量比.混合程度。反应时间等.研究表明HESNCR工艺的温度控制至关重要。最佳反应温度是950 若温度过低.氨的反应不完全、容易造成氨泄漏 而温度过高。氨则容易被氧化为氮氧化物、抵消了氨的脱除效率，温度过高或过低都会导致还原剂的损失和氮氧化物脱除率下降.通常设计合理的HESNCR工艺能达到60 70.的脱除效率 2,反应室可以是熔炉，锅炉或单独设计的反应室、HESNCR试剂的储存和处理系统与SCR和CSCR系统类似、此系统还原剂氨 一般采用氨水溶液、10，3,5，本条是关于逆流式活性炭选择性催化还原法处理设备的要求 1.逆流式活性炭选择性催化还原法、Coke Selective.Catalytic Reaction、CSCR.是一种干式低温活性焦炭脱硝工艺。100,200.CSCR的脱硫脱氮过程在一个反应器内进行,一步处理即能够达到处理效果，活性焦炭是这一处理过程的关键和重要的因素。脱硫是利用活性焦炭的吸附特性。脱硝是通过氨。一氧化氮，二氧化氮和活性焦炭发生催化还原反应而去除、主要化学反应方程式如下,6NO，4NH3。5N2.6H2O6NO2，8NH3，7N2，12H2O。2。CSCR脱硝系统有以下几个重要组成成分。1、鼓风机.2、气体淬火系统,若需要,3,吸收塔，4，解吸塔 5、催化剂注入系统，传输系统及装卸系统，6 氨储存系统、蒸发系统及注入系统。7、氮气供应系统,8、控制系统、9,电气系统，10.3.6,本条是关于氨供应系统的要求。1.液氨蒸发器一般为螺旋管式。管内为液氨。管外为温水浴缓冲槽维持适当温度及压力,通常以蒸汽直接喷入水中加热至40，再以温水将液氨汽化，并加热至常温。1、氨气流量受蒸发槽本身水浴温度控制调节，当水的温度高过55 时、则切断热源来源。并在控制室DCS上报警显示，2,如使用蒸汽作为热源。提供的蒸汽压力一般为0 8MPa 1，3MPa.温度280，375、以此作为蒸发器热源.3，蒸发罐上要装有压力控制阀将氨气压力控制在0，2MPa.当出口压力达到0，38MPa时、切断液氨进料.4,蒸发罐安装安全阀、能防止设备压力异常过高。2 液氨经过蒸发器蒸发为氨气后进入气氨缓冲槽、其作用是对氨气进行一个缓冲作用、保证氨气有一个稳定的压力，氨气缓冲槽的结构相对简单 主要包括氨气的进出口,安全阀以及排污阀等。