6，工艺设计6,0 1，电磁波暗室的工艺区划应满足暗室体型尺寸.暗室与功能性房间之间的相对位置要求,6,0.2，暗室应与测控间、设备间、试验间等相邻,6,0。3.暗室开门位置不宜在主反射区。6.0,4，暗室布局宜自建筑的底层开始.6 0,5。暗室体型宜选择内壁对电磁波反射路径既少又弱，试验操作安全可靠、结构简单的体型、6 0,6。暗室内有两套或以上功能测试系统时。其体型和尺寸除应满足各测试系统的测量技术要求外。还应满足系统间相互耦合的隔离要求、6 0,7.长方体暗室尺寸应符合下列规定 1、内壁长度L应按下式计算。L，L1 L2、L3 L4。6.0 7。1,式中.L1。测量距离 m 按表6,0.7计算.L2.暗室内测量系统设备和受试设备在测试中。沿暗室测量纵轴方向所占据的最大尺寸之和、m，L3、为满足运输、维护及电磁辐射性能要求,沿测量纵轴方向增加的长度 L4。暗室两端墙壁吸波材料沿测量纵轴方向的高度和。m，表6,0,7,L1计算、2、内壁宽度W应按下式计算.W。W1、W2，W3 6,0、7、2，式中.W、内壁宽度，m 不宜小于0，87L1，W1,暗室内测量系统设备和受试设备在测试中。沿暗室宽度方向所占据的最大尺寸。m.W2。满足运输,维护和辐射特性需要。沿暗室宽度方向的空间尺寸.m.W3、暗室两侧墙壁吸波材料高度的总和、m.3,内壁高度H应按下式计算,并应满足辐射特性要求 H,H1,H2、H3，6。0.7，3,式中、H，内壁高度.m,对于1,1,2,1、2,2 3 2类暗室，不宜小于0、87L1 H1.测量系统设备或受试设备的最大高度.m.H2，设备上部安装空间尺寸.m,H3、暗室顶部吸波材料高度,m.6、0.8，锥体暗室尺寸设计应符合下列规定，1.暗室静区尺寸不应小于待测天线尺寸.2，暗室长方体部分宽度和高度应相等,不应小于暗室静区尺寸的3倍、3.暗室长方体部分长度不应小于暗室宽度和主墙吸波材料高度的和,4.锥顶角可选取20。22、5,根据本条第1款,第4款设计的锥形暗室，测量距离L1应满足本规范表6，0 7的远场条件.6、6GHz及以上频段的锥形暗室,应符合自由空间电波传播幅度与相位的均匀性要求、6。0。9.正多边柱体暗室尺寸应符合下列规定。1、内壁内切圆半径R应按下式计算 R,L1。R2，R3.R4、6、0，9、1.式中，L1。测量距离.按本规范表6、0。7计算、对于1.1。2。1、3，2类远场测量暗室。当天线口面内电磁波相位偏差要求小于或等于λ,8时.K值取2、对于2.2类暗室、K值可小于2.R2 测量系统设备与受试设备沿半径方向的长度之和。R3。满足运输,维护和辐射特性需要。在半径方向的空间尺寸.R4。吸波材料的总高度、2。高度应按本规范式、6,0，7 3、计算，6 0,10.雷达截面紧缩场微波暗室,3,1类暗室 尺寸 应与要求的静区尺寸.测量系统布局 操作维护空间相协调匹配。6.0，11.除本规范表4 0、1中1.2,1,3,2.2.3，1，3,2 4，1类暗室测量系统在高度方向布局另有要求外.其他暗室内部测量系统应对称布局，6 0,12 暗室静区范围尺寸应大于受试设备试验状态中所覆盖的区域