4 5 半导体材料制备4,5 1.硅，锗材料制备废气治理应符合下列要求,1。氯化氢合成和三氯氢硅合成.提纯过程产生的含氯化氢的废气.应设置淋洗塔净化、2、原料储罐进,出料过程产生的含氯硅烷的废气.应设置淋洗塔净化，3 三氯氢硅还原尾气宜采用干法回收技术回收氢气,氯化氢、氯硅烷 并应返回相应的工艺系统、4、硅芯.硅片 锗锭腐蚀过程产生的含氟化氢.氮氧化物的废气、应设置碱液淋洗塔净化、5、硅粉仓,锗精矿仓产生的粉尘应设置高效布袋除尘系统回收,6。氧化锗制备过程产生的尾气中含有氯化氢.氯气，应设置碱液淋洗装置净化、7 单晶硅。单晶锗酸洗过程产生的含氟化氢，氮氧化物的废气.应设置碱液淋洗装置净化,4,5、2,合成砷化镓工序必须设置事故排放的含砷废气处理设施