4.5、半导体材料制备4。5。1 硅 锗材料制备废气治理应符合下列要求。1。氯化氢合成和三氯氢硅合成，提纯过程产生的含氯化氢的废气，应设置淋洗塔净化、2.原料储罐进、出料过程产生的含氯硅烷的废气 应设置淋洗塔净化。3,三氯氢硅还原尾气宜采用干法回收技术回收氢气 氯化氢 氯硅烷.并应返回相应的工艺系统 4.硅芯，硅片。锗锭腐蚀过程产生的含氟化氢 氮氧化物的废气,应设置碱液淋洗塔净化、5 硅粉仓.锗精矿仓产生的粉尘应设置高效布袋除尘系统回收.6 氧化锗制备过程产生的尾气中含有氯化氢、氯气,应设置碱液淋洗装置净化.7.单晶硅 单晶锗酸洗过程产生的含氟化氢，氮氧化物的废气.应设置碱液淋洗装置净化,4.5，2、合成砷化镓工序必须设置事故排放的含砷废气处理设施,