7,5、纯水制备7,5、1。硅芯.石墨件及硅料清洗应采用纯水 7，5，2，纯水站位置应满足工艺总体布局的要求。并应就近用水设备布置，7 5。3，纯水水质指标不应低于表7 5、3的规定，表7、5、3，纯水水质指标,注，表中第11项、第34项采用电感耦合等离子体质谱.ICP MS。检测,7.5，4.纯水储存和分配应符合下列规定，1,纯水储存罐体和输送管道材料应满足生产工艺的水质要求。宜选择洁净聚氯乙烯管.Clean,PVC.聚偏二氟乙烯管.PVDF 等管材.管道附件与阀门等应采用与管道相同的材质、2,纯水输送管道系统应采用循环方式.设计和安装时 不应出现使水滞留和不易清洁的部位 循环干管的流速宜大于1.5m,s.不循环的支管长度不应大于管径的6倍.3.纯水储罐和输送系统应设置清洗系统 7。5。5.纯水制备,储存和分配应符合现行国家标准,电子工业纯水系统设计规范。GB，50685的有关规定,