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5.薄膜基板制造工艺设备安装、调试及试运行5.1,一般规定5。1。1,薄膜工艺是在已选择好的基片上淀积金属或金属化合物.一般在基片上顺序地淀积一层电阻材料。一层阻挡金属材料和一层顶层导体材料、这些层相当薄.可用真空蒸发、溅射淀积 化学气相淀积工艺和这些工艺的变种、本章根据典型的薄膜基板制造工艺过程、即机械抛光、基片清洗.溅射种子层 聚酰亚胺涂敷,溅射钛层.光刻A1版.刻蚀.去胶,电镀 去除Ti.聚酰亚胺层、光刻A1反版、腐蚀种子层、去胶、同时考虑突出设备专用于薄膜工艺的特点。列出了磁控溅射镀膜机。真空蒸发镀膜机,化学气相淀积系统。旋涂及热板系统、曝光机。显影台.反应离子刻蚀机、化学机械抛光机等8种主要工艺设备,对各设备的安装及试运行要求作出具体规定.5、1.3.本节所涉及的测试仪器有。万能工具显微镜、膜厚测试仪.工具显微镜、
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