5.4 化学气相淀积系统5。4 1,本条规定了化学气相淀积系统的安装要求.1.目前主流的化学气相淀积技术有常压化学气相淀积 低压化学气相淀积。等离子体增强化学气相淀积。金属氧化物化学气相淀积等 不同的淀积技术对工艺气体的组分要求有所不同，3,由于化学气相淀积系统工艺要使用到SiH4.PH4。SF6 CH4，CF6等易燃,易爆或对人体有毒的危险性气体、为保证设备使用安全和人身安全.安装时应同时安装危险气体泄漏报警装置 本款为强制性条款,设备安装人员必须严格执行，5 为了保证操作时的安全 机壳应良好接地、5，4。2.本条规定了化学气相淀积系统的调试及试运行要求 2 应尽量延长真空泵的抽气时间.以便尽可能地抽除炉体内的残余气体，8。不同的膜种类.如多晶硅。氧化硅，氮化硅等.其片内,片间,批间的均匀性，淀积速率有所不同。